Til produktionsenheden på en forskningsinstitution skal kvaliteten af ultrarent vand optimeres. I anlægget produceres der special- og forsøgswafers. Det påkrævede vand anvendes mange forskellige steder i waferproduktionen. Til disse særlige applikationskriterier er kvaliteten af almindeligt ultrarent vand ikke tilstrækkelig, hvad angår partikelrenhed og skadelige ioner. Eftersom antallet af skadelige restmolekyler i mediet kan være for højt, skal det allerede forrensede vand efterrenses endnu en gang.