Voor de productiefaciliteit van een ondezoeksinstituut dient de kwaliteit van ultrarein water te worden geoptimaliseerd. In de installatie worden speciale wafers en testwafers geproduceerd. Het hiervoor benodigde water wordt in uiteenlopende fasen van de waferfabricage gebruikt. Voor deze specifieke gebruikscriteria is de kwaliteit van standaard ultrarein water met betrekking tot aanwezige deeltjes en schadelijke ionen onvoldoende. Omdat het aantal in het medium aanwezige schadelijke restmoleculen te hoog kan zijn, dient het voorgereinigde water nogmaals te worden nagereinigd.